Darmowa dostawa z usługą Inpost oraz Orlen od 299.00 zł
InPost 13.99 DPD 25.99 Paczkomat 13.99 Poczta Polska 18.99 ORLEN Paczka 10.99

Język AngielskiAngielski
Książka Twarda
Książka Atomic Layer Deposition Tommi Kaariainen
Kod Libristo: 04949772
Wydawnictwo John Wiley & Sons Inc, czerwiec 2013
Since the first edition was published in 2008, Atomic Layer Deposition (ALD) has emerged as a powerf... Cały opis
? points 577 b
981.58
Dostępna u dostawcy Wysyłamy za 15-20 dni

30 dni na zwrot towaru


Mogłoby Cię także zainteresować


Deutsche Kriegsschiffe Jak P. Mallmann-Showell / Miękka
common.buy 42.30
Handlungskompetenz im Ausland. Jette Katrin Pahlke / Miękka
common.buy 132.12
Design de Superfície Christie Meditsch / Miękka
common.buy 209.86
Clustering And Classification Phipps Arabie / Twarda
common.buy 850.15
Contemporary Literary Criticism, Volume 241 Jeffrey W. Hunter / Twarda
common.buy 2 719.23

Since the first edition was published in 2008, Atomic Layer Deposition (ALD) has emerged as a powerful, and sometimes preferred, deposition technology. The new edition of this groundbreaking monograph is the first text to review the subject of ALD comprehensively from a practical perspective. It covers ALD's application to microelectronics (MEMS) and nanotechnology; many important new and emerging applications; thermal processes for ALD growth of nanometer thick films of semiconductors, oxides, metals and nitrides; and the formation of organic and hybrid materials.

Podaruj tę książkę jeszcze dziś
To łatwe
1 Dodaj książkę do koszyka i wybierz „dostarczyć jako prezent” 2 W odpowiedzi wyślemy Ci bon 3 Książka dotrze na adres obdarowanego

Logowanie

Zaloguj się do swojego konta. Nie masz jeszcze konta Libristo? Utwórz je teraz!

 
obowiązkowe
obowiązkowe

Nie masz konta? Zyskaj korzyści konta Libristo!

Dzięki kontu Libristo będziesz mieć wszystko pod kontrolą.

Utwórz konto Libristo