phone (32) 444 93 66
LIBRISTO 0
Darmowa dostawa z usługą Inpost oraz Orlen od 299.00 zł
InPost 13.99 zł DPD 25.99 zł Paczkomat 13.99 zł Poczta Polska 18.99 zł ORLEN Paczka 10.99 zł
phone Kontakt phoneJak kupować

Ultrathin SiO2 and High-K Materials for ULSI Gate Dielectrics: Volume 567

Język AngielskiAngielski
Książka Twarda
Książka Ultrathin SiO2 and High-K Materials for ULSI Gate Dielectrics: Volume 567 H. R. HuffC. A. RichterM. L. GreenG. Lucovsky
Kod Libristo: 02060208
Wydawnictwo Materials Research Society, wrzesień 1999
Device scaling has been the engine driving the continued pervasiveness of the microelectronics revol...
? points 80 b Zapowiedź Zapowiedź
136.51 zł
Dodruk Termin nieznany Termin nieznany

30 dni na zwrot towaru

Mogłoby Cię także zainteresować

TOP
Intelligent Investor Benjamin Graham / Miękka
common.buy 85.52 zł
TOP
Unite Me Tahereh Mafi / Miękka
common.buy 32.62 zł
TOP
Disney Dreams Collection Thomas Kinkade Studios Disney Princess Coloring Poster Thomas Kinkade / Miękka
common.buy 72.24 zł
TOP
Star Wars The High Republic: Mission To Disaster Justina Ireland / Twarda
common.buy 50.69 zł
TOP
Drawing on the Right Side of the Brain Workbook Betty Edwards / Miękka
common.buy 92.30 zł
TOP
The War of Two Queens Jennifer L. Armentrout / Twarda
common.buy 107.77 zł
TOP
Magicians of the Gods Graham Hancock / Miękka
common.buy 55.28 zł
TOP
Ouran High School Host Club Complete Box Set Bisco Hatori / Miękka
common.buy 523.82 zł
TOP
Persona 5, Vol. 3 Atlus / Miękka
common.buy 37.91 zł
Louvre: All The Paintings Henri Loyrette / Twarda
common.buy 245.89 zł
Get Out of your Head Jennie Allen / Twarda
common.buy 82.12 zł
A New World Begins Jeremy Popkin / Twarda
common.buy 120.54 zł
Zapowiedź
Green Swans / Twarda
common.buy 106.77 zł
Lonely Planet California's Best Trips Lonely Planet / Miękka
common.buy 74.14 zł
Sleep: A Day and Night Reflection Journal / Twarda
common.buy 61.06 zł
Interactive for Spanish Speakers Level 1 Teacher's Resource Book with Class Audio CDs (3) Garan HolcombeNicholas MurgatroydHelen HadkinsSamantha Lewis / Twarda
common.buy 212.36 zł

Device scaling has been the engine driving the continued pervasiveness of the microelectronics revolution. The SIA roadmap calls for 4-5nm films (oxide equivalent thickness) in 2000, and

Informacje o książce

Pełna nazwa Ultrathin SiO2 and High-K Materials for ULSI Gate Dielectrics: Volume 567
Autor H. R. HuffC. A. RichterM. L. GreenG. Lucovsky
Język Angielski
Oprawa Książka - Twarda
Data wydania 1999
Liczba stron 615
EAN 9781558994744
ISBN 1558994742
Kod Libristo 02060208
Wydawnictwo Materials Research Society
Waga 1000
Wymiary 163 x 236 x 38

Kategoria

Technika, inżynieria i rolnictwo, procesy przemysłowe > Inżynieria mechaniczna i materiałowa > Materiałoznawstwo
Podaruj tę książkę jeszcze dziś
To łatwe
1 Dodaj książkę do koszyka i wybierz „dostarczyć jako prezent” 2 W odpowiedzi wyślemy Ci bon 3 Książka dotrze na adres obdarowanego

Logowanie

Zaloguj się do swojego konta. Nie masz jeszcze konta Libristo? Utwórz je teraz!

 
obowiązkowe
obowiązkowe
Zapomniane hasło

Nie masz konta? Zyskaj korzyści konta Libristo!

Dzięki kontu Libristo będziesz mieć wszystko pod kontrolą.

Utwórz konto Libristo